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原位納米粒度分析儀

隨著技術(shù)發(fā)展的要求以及實(shí)驗(yàn)的需求,科研和研發(fā)工作者越來(lái)越需要對(duì)納米合成過(guò)程納米粒度的變化情況進(jìn)行分析,通過(guò)對(duì)納米合成體系進(jìn)行粒度的原位表征,在材料或反應(yīng)體系的原始狀態(tài)下進(jìn)行實(shí)時(shí)、動(dòng)態(tài)的分析與監(jiān)測(cè),打破傳統(tǒng)測(cè)試方法的局限性,讓科研工作者能夠深入到微觀世界的核心,捕捉那些稍縱即逝的變化,對(duì)體系具有更深刻的認(rèn)識(shí),對(duì)納米粒子的生長(zhǎng)過(guò)程進(jìn)行反應(yīng)動(dòng)力學(xué)級(jí)別的研究,為后續(xù)的工藝改進(jìn)、界面調(diào)控、配方開(kāi)發(fā)提供強(qiáng)有力的數(shù)據(jù)支撐。

原位納米粒度分析儀


先進(jìn)的原位納米粒度分析儀


實(shí)時(shí)相關(guān)和時(shí)間分辨納米粒度測(cè)量

設(shè)備用途廣泛、靈活小巧,可快速準(zhǔn)確地進(jìn)行納米粒度測(cè)量、動(dòng)力學(xué)和過(guò)程監(jiān)控

適用于

1. 實(shí)時(shí)監(jiān)控納米顆粒合成工藝、提高懸浮穩(wěn)定性等

2. 原位測(cè)量(在反應(yīng)器、高壓滅菌器、密封小瓶等裝置內(nèi)部進(jìn)行測(cè)量)

3. 將粒度測(cè)量與其他光譜法( X射線小角散射、小角中子散射、拉曼光譜法、紫外-可見(jiàn)光譜法等)相結(jié)合


兼具緊湊性和耐用性


內(nèi)置技術(shù)

1. 高可靠性穩(wěn)頻固體激光器

2. 新一代高靈敏度光子計(jì)數(shù)器(APD)

1) 更高的靈敏度

2) 極低濃度和/或亞納米級(jí)樣品

3. 快速采集計(jì)數(shù)器和時(shí)間分辨相關(guān)

1) 連續(xù)信號(hào)記錄;高分辨率和實(shí)時(shí)相關(guān)


緊湊的人體工程學(xué)設(shè)計(jì)

1. 重量輕(<6 kg),占用空間小

1) 節(jié)省實(shí)驗(yàn)室空間,便攜

2. 光學(xué)單元可與控制單元分離

1) OEM 集成,方便搬運(yùn)和安裝

2) 遠(yuǎn)程探頭可根據(jù)應(yīng)用更換

3. 無(wú)需預(yù)熱 -> 可以立即使用

4. 無(wú)活動(dòng)件 -> 可靠,無(wú)需維護(hù)


獨(dú)特的原位非接觸式遠(yuǎn)程探頭



XASCO Kin遠(yuǎn)程探頭

用于非接觸式原位納米力度檢測(cè)

1. 原位非接觸式測(cè)量:無(wú)需分批處理,無(wú)污染風(fēng)險(xiǎn)占用空間小:易于集成到空間受限的環(huán)境中

2. 無(wú)源光機(jī)械組件:可在惡劣環(huán)境(ATEX、手套式操作箱)中工作單模光纖電纜:遠(yuǎn)程距離為2m25 m


廣泛的高級(jí)應(yīng)用


雙夾套玻璃反應(yīng)器中的原位檢測(cè)

與自動(dòng)進(jìn)樣機(jī)器人連用后的自動(dòng)高通量測(cè)量

密封小瓶(例如注射器)中的非接觸式測(cè)量

用戶(hù)自定義試驗(yàn)裝置中的動(dòng)力學(xué)測(cè)量

還有很多其他應(yīng)用!


配備 NanoKin 軟件


1. 方便使用的圖形用戶(hù)界面

2. 獨(dú)特的數(shù)據(jù)分析功能

1) 用戶(hù)自定義的動(dòng)力學(xué)分析/時(shí)間分辨分析

2) 雜散強(qiáng)度時(shí)間濾波

3) 時(shí)間切片和力學(xué)分析

  

在一個(gè)屏幕上輕松訪問(wèn)所有測(cè)量數(shù)據(jù)(強(qiáng)度、相關(guān)圖、擬合/殘差、粒度分析、累積粒度等)


1. 可定制的報(bào)告

2. 一件導(dǎo)出數(shù)據(jù)和圖表

3. 軟件遠(yuǎn)程控制操作:由外部TTL信號(hào)觸發(fā)

4. 自動(dòng)設(shè)置和用戶(hù)自定義設(shè)置(SOP)



1. 獨(dú)特的二維圖表示法

2. 用于快照分析的抓取功能

3. 詳盡的溶劑數(shù)據(jù)庫(kù)(超過(guò)250種溶劑+用戶(hù)自定義的溶劑)

4. 嵌入式測(cè)量模擬器和回放模式




用于納米粒度分析的高級(jí)算法




光學(xué)頭技術(shù)參數(shù)



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